Föredragen term
Atomic layer deposition
Definition
Uttömmande beskrivning av begreppets betydelse.- 1. A thin film deposition technique based on the sequential reaction of gaseous precursors at a surface to produce a monolayer (Ontobee, Chemical Methods Ontology). 2. Atomic layer deposition (ALD) is a thin-film deposition technique based on the sequential use of a gas-phase chemical process; it is a subclass of chemical vapour deposition. (Wikipedia)
Överordnat begrepp
Begrepp/term vars betydelse är vidare.Termer på andra språk
Termer för begreppet på andra språk.- Atomic layer deposition
URI
https://purls.helmholtz-metadaten.de/skosmos/sdv/AtomicLayerDeposition