Предпочитаемый термин
Chemical vapor deposition
Определение
Полное объяснение предполагаемого значения концепции- 1. Chemical vapor deposition (CVD) is a vacuum deposition method used to produce high-quality, and high-performance, solid materials. The process is often used in the semiconductor industry to produce thin films. (Wikipedia). 2. A synthesis method where the substrate is exposed to one or more volatile precursors, which react or decompose on the surface to produce a deposit.(Chemical Methods Ontology)
Концепция более широкого понятия
Концепция более широкого понятияНа других языках
Термины для концепции на других языках.- Chemical vapor deposition
английский
URI
https://purls.helmholtz-metadaten.de/skosmos/sdv/ChemicalVaporDeposition