Предпочитаемый термин
Atomic layer deposition
Определение
Полное объяснение предполагаемого значения концепции- 1. A thin film deposition technique based on the sequential reaction of gaseous precursors at a surface to produce a monolayer (Ontobee, Chemical Methods Ontology). 2. Atomic layer deposition (ALD) is a thin-film deposition technique based on the sequential use of a gas-phase chemical process; it is a subclass of chemical vapour deposition. (Wikipedia)
Концепция более широкого понятия
Концепция более широкого понятияНа других языках
Термины для концепции на других языках.- Atomic layer deposition
URI
https://purls.helmholtz-metadaten.de/skosmos/sdv/AtomicLayerDeposition