Hyppää sisältöön
Käytettävä termi

Ion implantation

Määritelmä

Tyhjentävä kuvaus käsitteen merkityksestä.
  • 1. Ion implantation is a low-temperature process by which ions of one element are accelerated into a solid target, thereby changing the target's physical, chemical, or electrical properties. (Wikipedia). 2. Ion implantation is a material surface modification process by which ions of a material are implanted into another solid material, causing a change in the surface physical and chemical properties of the materials. (Science Direct, Surface Modification of Textiles Woodhead Publishing Series in Textiles 2009, Pages 58-90). 3. Implantation or Ion Implantation is a technique where ions are accelerated to a higher energy and speed an injected into a semiconductor. The dominant techniques for introducing dopants into a semiconductor. (TIB, Digital Reference)

Yläkäsite

Merkitykseltään laajempi käsite/termi.

Muunkieliset termit

Käsitteen termit muilla kielillä.

  • Ion implantation

englanti

URI

https://purls.helmholtz-metadaten.de/skosmos/sdv/IonImplantation

Lataa tämä käsite