Avançar para o conteúdo principal

Buscar em um vocabulário

Idioma do conteúdo

Informações sobre o conceito

Termo preferencial

Chemical vapour deposition  

Definição

  • Chemical vapor deposition (CVD) is a vacuum deposition method used to produce high-quality, and high-performance, solid materials. The process is often used in the semiconductor industry to produce thin films. (Wikipedia)

Conceito mais amplo

URI

https://purls.helmholtz-metadaten.de/evoks/sdv/chemicalVapourDeposition

Baixar este conceito: